SJT 10312-1992 电子束曝光机通用技术条件

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2009-6-11

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Si,中华人民共和国电子工业行业标准,sJ/T 10312-92,电子束曝光机通用技术条件,1992-0&-15发布1992-12-01实施,中华人民共和国机械电子工业部发布,中华人民共和国电子工业行业标准,电子束曝光机通用技术条件SJ/T 10312- 92,General specification of electron beam exposure s六item,主要内容与适用范圈,本标 准 规 定了电子束曝光机(以下简称曝光机)的术语、技术要求、试验方法、检验规则等,本 标 准 适用于集成电路、微波器件、光电器件、声表面波器件等微细图形制作的电子束曝,光机,引用标准,SJ/Z 1793 电子工业专用设备油漆涂层技术条件,SJ 1276 金属镀层和化学处理层质量检验技术要求,JB 8 产品标牌,GBn 193 出口机械、电工、仪器仪表产品包装通用技术条件,GB 191 包装储运图示标志,GB 6388 运输包装收发货标志,术语,3.1 曝光分辨率,指在 本 标 准规定的环境条件及工艺条件下,电子束对基片曝光显影后,获得的细小图形清,晰度。通常用曝光、显影后所获得的最细图形线宽表示,3.2 图形边缘粗糙度,电子 束 对 基片曝光、显影后所获得的图形边缘粗糙缺陷的相对值。通常与曝光机的最细图,形线宽比较,一般图形边缘粗糙度,不大于最细图形线宽值的13%.,3.3 图形精度,电子 束 在 基片上,对给定的图形作分步重复曝光,所获得图形之问的相对误差值。通常用,均方根值表示,3.4 图形拼接精度,当 给 定 的图形尺寸,超过电子束的偏转场部分,用工件台移动、位移之后将图形拼接曝光,这种衔接处的误差,称为图形拼接精度。通常用均方根值表示,对 光 栅 扫描电子束曝光机而言,是指两条带之间的衔接误差,对 矢 量 扫描电子束曝光机而言,是指偏转场之间的衔接误差,3.5 套刻精度,中华人民共和国机械电子工业部1992-06-15批准1992-12-01实施,一 1 一,sa/'e 10312-92,一 种 集 成电路的一套掩模,彼此正确迭合时,其中一层掩模上的全部功能图形,与其它任,一层掩模上的相应图形的相对位置偏差,3.6 自套刻精度,在 同 一 块掩模版上,电子束对给定图形,作两次分步重复曝光,其两次曝光图形的相对位,置偏差,3.了直接作图的套刻精度,在 一 块 圆片上,电子束作无掩模的直接光刻,将集成电路各层的掩模图形分别直接在圆片,上曝光。其各图层相应图形的相对位置偏差,3.8 同机套版精度,在 指 定 的一台电子束曝光机上,所制作的一种集成电路的一套掩模版,相互正确迭合时,其各图层相应图形的相对位置偏差,3.9 有效度,有 效 度 是曝光机在使用期问,维持规定功能概率的一个可靠性指标,曝 光 机 的有效度一般用有效工作时间与修复时间、有效工作时间之和的比值的百分数表,尔,产品分类,按电子束斑形状分为,可变矩形电子束曝光机;,圆形电子束曝光机,a. 匕,4.2 按曝光方式分为:,a. 矢 量扫描电子束曝光机;,b. 光 栅扫描电子束曝光机;,c. 光 栅 、矢量混合扫描电子束曝光机,4.3 型号,由具 体 产 品标准规定,技术要求,工作环境条件要求,.。混彦.n.宪I:,表1,房间冬季夏季,曝光机主机房间20士0. 5 25士0.5,曝光机其它房间20士1 25士I,相对湿度:40%一55 ;,空气洁净度:在曝光机主机房间内100。级,在取送版口附近局部净化,当制作微米级,阮亡,图形时局部净化100级,制作亚微米级图形时局部净化10级;,d. 空 间磁感应强度不大干5X 10-'T;,e. 曝 光机主机的安装基础要求;在10Hz以上的振动应不大干。,。坛.在10H;以下的振,一 2 一,SJ/T 10312-92,动应不大于。.00 28;,e. 曝 光机主机安装基础的形状、尺寸应由具体产品标准规定;,9. 电 源电压:380V士10%,220V士10纬,电源频率50Hz士1.Y;,h. 冷 却水的进水温度5^35"C,进水压力10'- 3X10'Pa;,1. 氮 气 纯度应大于或等于99.90.,5.2 一般要求,5.2.1 曝光机电子枪阴极材料和寿命、加速电压、控制计算机的型号、主要性能和配置(内存,量、磁盘容量及型号、磁带型号),计算机能接受的数据格式、手编格式(由制造厂家提供)和,CAD生产格式,应在具体产品标准和产品说明书中明确规定和说明,5.2.2 油漆涂覆的零部件的涂层应符合SJ/Z 1793的要求。电镀及化学涂覆的零部件表面应,光滑细致,其质量要求应符合SJ 1276的规定‘,5.3 主要性能要求,5.3.1 电子束流大小,根 据 阴 极材料的不同,由具体产品标准给出参数,5.3.2 电子束斑形状、尺寸和边缘分辨率,由 具 体 产品标准给出参数,5.3. 3 电子束流密度,由 具 体 产品标准给出参数,5.3.4 扫描频率,由 具 体 产品标准给出最高扫描频率,5.3.5 电子束偏转扫描场尺寸,由 具 体 产品标准给出最大扫描场尺寸参数,5.3. 6 加工件尺寸范围,曝 光机 应配备的可曝光最大圆片和掩模版板架,其规格对应关系如表2规定,表 2 m m,圆片尺寸,掩模版板架,025 」$50 } "75 1 $ 1 00 一0125 } 0150,50 X 50 I 75X 75 1 100X 100 一125 X 125 {150 X 150 { 175 X 175,5.3.7 工件台移动速度,由 具 体 产品标准给出参数,5.3.8 工件台移动范围,曝 光 ……

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